Anti-aks ettiruvchi plyonka deb ham ataladigan aks ettiruvchi plyonka asosan materialning yuzasiga yoritilgan nurni kamaytirish va uzatiladigan nurni ko'paytirish uchun ishlatiladi. Bu keng ko'lamli dasturlar bilan qoplangan kino va kundalik hayotda, elektronika, sanoat, astronomiya va harbiylarda keng qo'llaniladi. Va boshqa sohalar. An'anaviy tozalash usuli - atrof-muhitni tozalashni qo'llash, bu nafaqat atrof-muhit ifloslanishini kuchaytirish, balki ko'plab inson kuchi, moliyaviy resurslar va moddiy resurslarni talab qiluvchi takrorlanishni talab qiladi. Shu bois so'nggi yillarda o'z-o'zini tozalashga qarshi aksiyalarni tadqiq qilish va rivojlantirishga katta e'tibor berildi va o'z-o'zini tozalash xususiyatlari va yuqori samaradorlikka ega bo'lgan aks ettiruvchi filmlarni tayyorlash texnologik rivojlanishga bo'lgan talabga aylandi.
Printsipga kirish. (1) Yansıtılan yorug'likni kamaytirish va uzatilgan nurni oshirish uchun, aks sado berish printsipi, substrat yuzasida mos keladigan qalinligi va sinishi indeksi bilan kino qatlamini qoplash mumkin va aks ta'sirni aks ettirish ta'siri asosan, kino yordamida vayronkor aralashuvlar orqali erishildi. Olingan shovqin effekti yoritilgan nurni yo'q qiladi va yorug'likning o'tkazuvchanligini oshiradi. (2) O'zini tozalash tamoyili, hidrofilligi jihatidan, materialning yuzasida suv damlacıklarının aloqa burchagi nolga tengdir. Suv bilan aloqa qilganda, u suv plyonkasining tortishish tomchidan chiqarib yuborilishi mumkin bo'lgan tekis suyuqlik plyonkasini hosil qilish uchun sirt ustida tez tarqaladi. O'z-o'zini tozalovchi ta'sirga erishish uchun binoni. hidrofobiklik jihatidan printsip "Lotus effektiga" asoslanadi, lotus bargining o'z-o'zini tozalash ta'siri havo qatlami, nipel va silikatning shamdan qatlamidan tashkil topgan nozik tuzilishdir. Yassi nozik struktura materialning yuzasida suv tomchilarining kontaktli burchagini oshiradi, suv tomchilari osonlik bilan siljiydi va suv tomchilari materialning yuzasiga yoyilganda chang va ifloslantiruvchi moddalarni olib chiqib ketadi, tozalash ta'siri.
O'z-o'zini tozalash uchun aks etuvchi aks ettiruvchi filmlar uchun keng tarqalgan material. (1) Titan dioksidi o'zining fotokatalitik, foto-super-hidrofil va arzonligi sababli, ayniqsa nanoelektrik tozlar va plyonkalar ishlab chiqarilishi tufayli, o'z-o'zini tozalash uchun anti-aks ettiruvchi plyonka sifatida keng qo'llaniladi, shuning uchun TiO2 olingan. Rag'batlantirish. Shu bilan birga, TiO2 kinoining kattaligi kattaligi tufayli kichraytirishi indekslari nisbatan yuqori bo'lib, odatda 2,2 dan 2,7 gacha, shaffof substrat yuzasining aksini oshiradi. Shuning uchun ilmiy tadqiqotchilar TiO2 filmining kichrayganlik indeksini kamaytirish uchun turli jarayonlardan foydalanadilar. Yil davomida Wang Jianwu va boshqalar, ko'zga ko'rinadigan yorug'lik oralig'ida 97,2% ga yuqori o'tkazuvchanlikka ega bo'lgan SiO2 / TiO2 ikki qatlamli aksil-aks ettiruvchi plyonkani tayyorlash uchun chap-jel usulini qo'llagan va keyinchalik filmning burchak burchagi ultrabinafsha nurli nurlanish 0 ° ga yaqin. O'z-o'zini tozalash uchun yaxshi xususiyatga ega. (2) Past refriktiv indekslari (taxminan 1,3 kichraytiruvchi indeks), arzon narxlardagi elektr xossalari, yuqori kimyoviy qat'iylik, kislotali va gidroksidi korroziyaga chidamliligi kabi mukammal xususiyatlarga ega Silika hozirgi vaqtda keng qamrovli tarzda o'rganilmoqda va shuningdek, . Membranalardan biri. Bugungi kunda ko'plab olimlar "barg ta'siri" bilan SiO2-ning aks-sadolarini suratga olish va qurishmoqda. Wei-Lun Min va boshq. spinli qoplama va shishirma bilan mikro-konveks silika olti burchakli zarracha majmuasi tuzilishini tayyorladilar. Materialning yuzasiga ko'rinadigan yorug'likning o'tkazuvchanligini kuchaytiradi va uni o'zini tozalash uchun payvandlash vaqtini boshqarish orqali kontakt burchagini boshqaradi.
O'z-o'zini tozalaydigan aksil-aks ettiruvchi filmda tadqiqotlar olib borish. O'z-o'zini tozalaydigan aksil-aks ettiruvchi filmning ilmiy-tadqiqot ishlarida ko'plab yuqori sifatli ilmiy xodimlar katta hissalarini qo'shganlar va muayyan yutuqlarga erishdilar. 2013-yilda adabiyotda shisha substratda nanopartikullar, ichi bo'sh nanosferalar va nanosheatlardan tashkil topgan keng to'lqin uzunlikdagi akslantirishni va ultra-juft-farqli filmni tayyorlash uchun laminat texnologiyasini (LBL) qo'llagan. Ilmiy tadqiqotchilar o'z-o'zini tozalash xususiyatiga ega aks ettiruvchi filmlarni yaratish bo'yicha turli choralarni ko'rsalar-da, tadqiqotning ko'pgina qismi laboratoriya tadqiqot bosqichlari bilan chegaralangan va yirik ishlab chiqarish uchun mos emas. Shuning uchun, ishlab chiqarish va amaliyotda hali ham katta imkoniyatlar va qiyinchiliklar mavjud: avvalambor, mexaniklik kambag'al emas; Ikkinchidan, narx juda yuqori va o'lcham kichik. Bugungi kunda bildirilgan o'z-o'zidan tozalash xususiyatlarining ko'pchiligini tayyorlash jarayoni murakkab jarayonlarni, qattiq tayyorlash muhitlarini, qimmat reaktivlar va uskunalar va boshqalarni o'z ichiga oladi, qimmatga tushadi va kichik substratlar yoki maxsus substrat materiallariga mos keladi. , o'lcham kichik.
O'z-o'zini tozalashga qarshi aks ettiruvchi filmning namoyishi. Bunday cheklanganlik va yuqori xarajat bunday aks etuvchi-aks etuvchi filmlarni o'z-o'zini tozalash xususiyatlariga ega bo'lgan dasturlarni ishlab chiqishga va ishlab chiqarishga to'sqinlik qilishi mumkin. Kelajakda quyidagi tadqiqot yo'nalishlari ko'proq tadqiqotchilarning diqqatini tortadi: 1 Hozirgi zamonaviy analitik vositalar va vositalar va nazariy hisoblash darajasini o'rganish natijasida ko'proq geologik tadqiqotlar kino tuzilishi, strukturasi, sirt xususiyatlari va kino mexanizmlari o'rtasidagi o'zaro bog'liqlikni ko'rsatadi. Qurilish; 2 ta yuqori kuchli va bardoshli o'zini o'zi tozalashga qarshi ko'zoynak plyonka strukturasini qurish tadqiqotning asosiy yo'nalishi bo'lib qoladi, albatta, ekologik omillar ham hisobga olinishi kerak; 3 ta yangi material va ilg'or qoplama texnologiyasi ilovalari ham o'z-o'zini tozalashga qarshi aks etuvchi filmni qo'llashni kengaytirishi mumkin.
